王东来前世的时候，就曾经有过一段时间出现了铺天盖地的相关营销文章。

asml打造小而精的光刻机，这是为了出口赚钱。

而华国作为被制裁的国家，地大物博，又不用出口，完全可以直接采用一种相反的研发理念。

那就是将光刻机进行扩大化。

从小小的一台光刻机，变成一个占地巨大的光刻工厂。

理想状态下的光刻机，一天24小时可以生产600x400颗芯片，也就是二十四万颗芯片，除去其中的次品之后，一天能剩下二十万颗左右。

但是，要注意到这是理想状态下。

实际上，一台光刻机的工作效率受到很多种因素的影响，包括光刻机的型号、工艺、晶圆大小、芯片尺寸和复杂度等。

不同型号的光刻机在光源系统、光学镜头、双工作台等方面的差异，直接决定了光刻机的分辨率、套刻精度和生产效率。

最后，理想状态下可以一天生产二十万合格芯片的光刻机，其实能够生产出来的芯片仅仅只有两万左右。

但是，如果换成光刻工厂的话，主打的就是一个量大实惠。

一次性可以生产的芯片，远远超过光刻机，不管是理想状态下的生产数量还是实际生产数量，都会暴打光刻机。

只是，在前世的时候，对于光刻工厂的真实性和可信性，根本没有得到学术界的承认。

王东来此世早就生出了这样的想法。

而在学习到了相关知识之后，王东来也明白了此事的难度。

理想很美好，现实很骨感。

想要完成光刻工厂的设想，难度极大。

绝对不比研发出一台高性能的euv光刻机简单。

甚至，从某一种方面来说，难度还要更大。

然而，天才就是天才。

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