官方要做，有国家机器全力支持，五年就差不多搞定14纳米的duv。

后续不断迭代升级，逐步提高精准度，达到10纳米，7纳米，不在话下。

毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式duv 1250i，最初也是造45纳米芯片的。

后续不断对duv光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面，进行全方位升级。

这才逐渐实现了32-28纳米工艺，以及后续的20-16纳米工艺，再到10纳米节点、7纳米节点，以及十年后的5纳米节点。

前世duv国产光刻机之所以迟迟不量产，主要原因就是要求高，起步高。

若是只能量产45纳米，那意义不大，推出了也没多少企业用。

十年后，缺的是高端光刻机，不是45纳米的光刻机。

但要想量产7纳米，甚至5纳米，那难度就大了，国产duv都得不断升级。

因此，国产duv迟迟不推出，就是在憋大招。

不过这一次就无所谓了。

起步早，能量产28纳米，就算是非常成功。

甚至量产45纳米，王逸都会疯狂买买买。

毕竟未来五年内，45纳米都是主流芯片。

而28纳米和20纳米，都只是少量的旗舰芯片，只占少数。

相反，更多的芯片都是物美价廉的45纳米。

国产光刻机若是能量产45纳米，都会很有市场。

但若是十年后才推出45纳米的国产光刻机，那就难了。

毕竟十年后的45纳米，是真的没法用。

赵老话锋一转：“不过你们低调归低调，但该有的奖励一点不少。”

“今后星逸半导体的芯片，全部免税。”

“星逸半导体盈利前五年，