euv光刻机的核心技术，主要由三大系统构成。

首先是euv光源系统，这个系统负责制造光刻过程中，需要用到的特殊光线。

从第一代的uv光刻机，到第五代的euv光刻机，光线的波长也从436nm，缩短到了13.5nm，目前所有的光刻机，就是通过光线的不同，来区分技术等级的。

这其中主要涉及到的原理，就是光学中光线波长和清晰度的关系。

最简单的道理，就是进入黄色的钨丝灯房间，大部分人都会感觉视线昏暗，

哪怕多加几个灯泡，也始终感觉没有白色的led灯那么明亮和清晰。

这就是因为黄色光的波长，要远高于白色光，

光线的波长，就像是海浪一样，越大的波浪，拍打在海防堤上的水位高低起伏就越大。

而这个水位的高低落差，换成在光学领域，就成了影响阴影边缘清晰度的重要因素。

因此，想要达到越小制程的芯片工艺，就需要波长越短，越无限接近绝对直线的光。

而在euv光源技术上，据康驰目前所能查到的资料来看，国内的常春光所应该也已经接近突破的边缘了，但具体到了哪一步，康驰也不清楚。

他打算先试着了解一下情况，

如果条件允许，价格合适的话，他可能会直接向他们进行采购，

哪怕技术稍微不达标，采购过来自己再进行改良优化，也能节省大量的时间和精力。

毕竟一台光刻机里面，有足足十几二十万的零部件，全靠大唐重工自己来做的话，那得搞到猴年马月去。

而向他们采购，既不浪费他们的科研成果，还能利用上他们的生产力，

也算是共赢了。

所以康驰这次，并不排斥自己成为组装、调试和改良的角色。

放着华