在无数华国科研工作者的努力下，一座座的技术高峰都已经陆续被征服。

攻克euv光刻机，也只是时间早晚的问题。

作为全球唯一一家能生产 euv极紫外光刻机的企业，阿斯麦ceo老温的说辞，更是华国光刻机研发进程最真实的写照。

一开始他说：“就算将光刻机的图纸拿给华国人，华国人也制造不出先进的光刻机。”

后来光刻机断供，华国开始全力研发光刻机并捷报频频。

这货又连忙改口说：“其实物理定律全世界都一样，华国人没道理造不出来。”

变脸之快，都可以去演川剧了……

同时为了保住在华国市场，他们还疯狂向华国出口duv光刻机。

综上分析，其实华国目前真正缺的，不是中低端的duv光刻机，而是7纳米以内高端制程的euv光刻机。

这不但体现在进口光刻机，国产光刻机同样如此。

目前魔都微电子已经可以量产，90nm制程的duv光刻机了，

28nm的duv浸没式光刻机，也已经有了工程样机，达到量产也已经是指日可待了。

而一旦彻底掌握了浸没式技术，再继续压缩制程，也就变成水到渠成了。

比如康驰手上这块14纳米制程的显卡，只要在28nm的duv浸没式光刻机基础上，加个双工作台模式就能达到，

因此属于国内其它研发团队，可能很快就能突破的技术。

所以从必要性上看，也难怪康驰会考虑有没有解析它的必要。

而以如今的康驰的成就，就算造出了evu光刻机，想必大家虽然惊讶，但肯定不会觉得他是外来物种……

想到这里，康驰果断选择了给这张显卡升级！

通用经验-3196！

随着一道微光闪过