光刻作为芯片制造流程中最关键的环节,其基本原理其实很简单,就是用光,来完成对硅片的雕刻。
光刻中的硅片,就像是挂在墙上的投影布,而光刻机则是投影仪,
如果投影布表面不平整,出现起伏,那投影的画面自然就会扭曲变形。
在光刻中,硅片的表面瑕疵,则会导致投影上去的电路设计路变形,从而导致良率降低,甚至整张晶圆报废。
所以想要得到一张能用来制造芯片的硅片,则需要把切割后的单晶硅片进行抛光打磨,直至它的表面平整度低于1.5nm rms。
这相当于在电影院挂上一块大幕布,它的表面起伏不能超过一根头发丝大小,无限接近于完美的镜面。
因此,这对硅片制造抛光工艺要求,自然就显得极其重要了。
从圆珠笔头上的小钢珠,到芯片的原材料硅片,再到光刻机上的镜片,最后甚至是科幻三体中表面完美无暇的水滴……
其实考验一个文明工业水平高度的,就是看你能把一个物品造得有多精细。
而造精细的东西,自然就需要空气干净的洁净室,不然空气中全是灰尘细菌,再怎么打磨造不出合格的硅片。
“其实这些年我们通过仿制岛国的设备,已经可以达到2.6nm rms的平整度了,但无论我们再怎么检查,哪怕每一个零件都已经达标了,但依然没办法继续突破……”
严辉穿一边穿着防护服,一边向康驰介绍着他们的研究进度。
“抛到2.6nm rms用的是什么抛光液?”
“以sio2为基础,加入0-70wt%的双氧水,最后用koh调节ph到8.5。”
康驰点了点头:“先看看再说吧。”
两人穿好防护服后,很快就来到了抛光实验室,然后由严辉主持,向康驰演示了一次抛光实验。
在传统的硅片抛光打磨中,通常会先用机械抛